氮化鈦涂層可制備哪些復(fù)合涂層

一、Al/TiN的復(fù)合涂層

氮化鈦涂層中鋁元素的參與，有用改進了抗氧化能力，提高了運用溫度的規(guī)劃,其關(guān)鍵在于TiN/Al涂層在高溫時氧的分散形成了Al2O3膜。用磁過濾多弧離子鍍的方法，在-1 kV的偏壓下，在-400 V下先鍍底層鋁，再在-200 V下鍍氮化鈦，將制得的AL/TiN涂層與單層TiN涂層在空氣活動的箱式爐中做抗氧化功能對比實驗,效果得出在550C時，保溫20 h，Al/TiN顏色略有改動，而TiN薄膜此刻顏色現(xiàn)已產(chǎn)生較大的改動，產(chǎn)生了氧化分解，氧化產(chǎn)物為TiO2。

二、Ti/TiN的復(fù)合涂層

氮化鈦涂層中參與鈦過渡層會降低涂層試樣的表面硬度,同時也降低了承載能力。不過鈦過渡層的引入并沒有引起氮化鈦涂層硬度值較大改動，涂層的硬度主要與N與Ti2之比和氮化鈦涂層的孔隙率有關(guān)。鈦過渡層的引入除可以提高粘著強度外，還可以提高氮化鈦涂層的抗腐蝕功能。

當(dāng)然，為了更好地提高涂層功能，也可以進行Ti/TiN/Ti/TiN等多層復(fù)合。別的，在增加鈦中間層后，涂層的厚度沒有出現(xiàn)迭加；相反，在相同條件下，堆積的Ti/TiN涂層的厚度比單層氮化鈦的厚度還減小。這是因為，在基體上堆積得到的涂層關(guān)于有沒有中間層得到的厚度是不一樣的，并且被基體所吸收的涂層材料也是不一樣的。　　       

三、TiN/Cr涂層

選用電弧離子鍍制備方法，可以對獨立的鈦靶材和鉻靶材的弧電流進行控制，在高速鋼基體上制備不同成分配比TiN/Cr涂層。

TiN/Cr涂層中的鉻原子部分置換氮化鈦晶格中的鈦原子，且部分與N反應(yīng)生成氮化鉻、一氮化二鉻或以單質(zhì)的方法存在。因為鉻原子的參與，提高了TiN/Cr涂層的致密度，增強了涂層的耐腐蝕性。

四、Ti/Fe/Cr/N多元涂層

將不銹鋼條鑲在Ti中形成組合靶，經(jīng)過選用多弧離子鍍技能在高速鋼基體上成功地堆積上質(zhì)量出色的Ti/Fe/Cr/N多元涂層。在研討中發(fā)現(xiàn)Ti/Fe/Cr/N多元涂層的硬度、強度和耐蝕功能優(yōu)于TiN涂層。這是因為與TiN涂層比較，Ti/Fe/Cr/N多元涂層孔隙度較低。

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